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干法刻蚀工艺与设备技术讲座

发布时间：2012-10-22 点击数：

干法刻蚀工艺与设备技术讲座

Ø主题：干法刻蚀工艺与设备

Ø内容：ICP、RIE、DRIE工艺与设备

Ø对象：感兴趣的研究生

Ø时间：2010-11-10，下午 2:30-4:00

Ø讲座地点：科技园西五楼 A328

Ø现场讲解地点：1楼洁净室

Ø讲座人：王久洪

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Gan_Fa_Ke_Shi_Jiang_Zuo_Tong_Zhi_.ppt

2.45 MB

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